Nanomegmunkálások
Intézetünk nemrégen pályázati úton hozzájutott egy különleges eszközhöz egy ún. nanomegmunkáló állomáshoz. Ez alapjaiban egy LEO gyártmányú, különlegesen nagy érzékenységű (1-2 nm!) pásztázó elektronmikroszkóp, amelybe két kiegészítő eszközt építettek be. Egy ún. fókuszált ionnyalábban működő ionmarót (FIB), amellyel szubmikronos léptékben lehet az anyagot eltávolítani, "faragni", és egy olyan leválasztó ("rajzoló"?) rendszert, amely ötféle gázt tud a megmunkálandó anyagra ráfújni, amelyek azután az érkező elektronok vagy ionok hatására vegyülve lecsapódnak a felületre. Mindezen folyamatokat a pásztázó mikroszkópban menet közben látjuk, vezérelhetjük. A következő animáción egy CMOS áramkör boncolását mutatjuk be a LEO cég demo felvételén.
Animáció: FIB maró és rétegleválasztó üzemmód (mpg, 19,4 MB!)
Saját eredményként egy felboncolt optikai elemen, az ún. Bragg-reflektoron mutatjuk be a vágás műveletét (Tóth Attila, Volk János). (22. ábra)
Ezen az ábrán a végső "polírozást" nem a LEO gépben, hanem egy olyan ionmaróval készítettük, amelynek a különböző generációi évtizede a világ előtt jártak egy lépéssel. Barna Árpád konstruktőri tudását dicséri ez a gépcsalád (23. ábra).
Szimulációk